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テクニカルサポート
| 使用温度 | R.T.～400℃ |
|---|---|
| 温度精度 | ±5℃ |
| 雰囲気 | Air、N2 |
| 熱源 | 電気 |
| クリーン度 | Class 100 |
| 加熱方式 | 遠赤外線＋熱風 |
高速・高精度加熱
遠赤外線と熱風のハイブリットにより、高速かつ均一に加熱できます。
クリーン雰囲気下での加熱
ヒーター表面の特殊加工により、炉内を清浄雰囲気に保ちます。
※多段化システムへの対応可能
2～3段の加熱炉、専用リフターにより大量生産へ対応します。
用途
- LCD、PDP、OLED、FEDガラス基板、洗浄後水分乾燥、各種ペースト乾燥
- セラミック基板の印刷乾燥・焼成
